フォトレジスト(ArF)

2017年2019年│2021年

2021年 ××億円(世界市場)

市場規模の推移


販売金額前年比
2018年××
2019年××××
2020年××××
2021年(見)××××
2022年(予)××××

(単位:百万円、%)

将来予測 ××億円(2025年)

フォトレジストは、半導体素子などにパターンを形成するフォトリソグラフィーに使用される感光性材料である。
フォトレジストは使用される光線の波長によって分類され、ArFで使用される光線の波長は、193nmである。



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メーカーシェア


企業名販売高 見込シェア
JSR××××
信越化学工業××××
住友化学××××
東京応化工業××××
その他××××
合計××100

2021年 見込 (単位:ガロン、%)

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今後の市場動向





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指標 評価基準について

指標項目 指標値 評価
市場規模
(2021年)
××億円 ★★★★★★☆☆☆☆
前年比
(2021/2020年)
114.4 % ★★★★★★★★☆☆
3年平均成長率
(2018-2021年)
13.1 % ★★★★★★★★☆☆
長期平均成長率
(2018-2025年)
9.8 % ★★★★★★★☆☆☆
予測平均成長率
(2021-2025年)
7.4 % ★★★★★★★☆☆☆


出典:富士キメラ総研「2022年 エレクトロニクス先端材料の現状と将来展望」2022年1月25日刊

Mpac掲載:2022/12/20