フォトレジスト(ArF)

2017年│2019年│2021年

2019年 ××億円(世界市場)

市場規模の推移


販売金額前年比
2016年××
2017年××××
2018年××××
2019年(見)××××
2020年(予)××××

(単位:百万円、%)

将来予測 ××億円(2023年)

フォトレジストは、半導体素子などにパターンを形成するフォトリソグラフィーに使用される感光性材料であり、光重合反応によって、溶解性が変化する。レジストには露光感度や解像度、ドライエッチング耐性が求められる。



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メーカーシェア


企業名販売高 見込シェア
JSR××××
信越化学工業××××
住友化学××××
東京応化工業××××
その他××××
合計××100

2019年 見込 (単位:千ガロン、%)

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今後の市場動向





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指標 評価基準について

指標項目 指標値 評価
市場規模
(2019年)
××億円 ★★★★★★☆☆☆☆
前年比
(2019/2018年)
100.2 % ★★★★★☆☆☆☆☆
3年平均成長率
(2016-2019年)
7.6 % ★★★★★★★☆☆☆
長期平均成長率
(2016-2023年)
7.2 % ★★★★★★★☆☆☆
予測平均成長率
(2019-2023年)
6.9 % ★★★★★★★☆☆☆


出典:富士キメラ総研「2020年 エレクトロニクス先端材料の現状と将来展望」2020年1月10日刊

Mpac掲載:2020/12/18