フォトレジスト(g線/i線)

2017年│2019年

2019年 ××億円(世界市場)

市場規模の推移


販売金額前年比
2016年××
2017年××××
2018年××××
2019年(見)××××
2020年(予)××××

(単位:百万円、%)

将来予測 ××億円(2023年)

フォトレジストは、半導体素子等にパターンを形成するフォトリソグラフィーに使用される感光性材料であり、光重合反応によって、溶解性が変化する。レジストには露光感度や解像度、ドライエッチング耐性が求められる。



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有料版は、フォトレジスト(g線/i線)の定義・市場規模についてのコメントを表示しています。

メーカーシェア


企業名販売高 見込シェア
東京応化工業××××
DuPont Electronics & Imagings××××
JSR××××
住友化学××××
その他××××
合計××100

2019年 見込 (単位:千ガロン、%)

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今後の市場動向





こちらはサンプルです。
有料版は、フォトレジスト(g線/i線)の市場動向についてのコメントを表示しています。

指標 評価基準について

指標項目 指標値 評価
市場規模
(2019年)
××億円 ★★★★☆☆☆☆☆☆
前年比
(2019/2018年)
101.7 % ★★★★★☆☆☆☆☆
3年平均成長率
(2016-2019年)
0.9 % ★★★★★☆☆☆☆☆
長期平均成長率
(2016-2023年)
1.4 % ★★★★★☆☆☆☆☆
予測平均成長率
(2019-2023年)
1.7 % ★★★★★☆☆☆☆☆


出典:富士経済「2020年 エレクトロニクス先端材料の現状と将来展望」2020年1月10日刊

Mpac掲載:2020/12/18