市場規模の推移
| 年 | 販売金額 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2018年 | ×× | － |
| 2019年 | ×× | ×× |
| 2020年 | ×× | ×× |
| 2021年（見） | ×× | ×× |
| 2022年（予） | ×× | ×× |
(単位：百万円、％)
- 将来予測 ××億円（2025年）
-
フォトレジストは、半導体素子等にパターンを形成するフォトリソグラフィー工程に使用される感光性材料である。
フォトレジストは使用される光線の波長によって分類され、g線は436nm、i線は365nm、KrFは248nm、ArFは193nm、EUVは13.5nmの波長である。
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有料版は、フォトレジスト（ｇ線/i線）の定義・市場規模についてのコメントを表示しています。
メーカーシェア
| 企業名 | ||
|---|---|---|
| 東京応化工業 | ×× | ×× |
| DowDuPont (米国） | ×× | ×× |
| JSR | ×× | ×× |
| 住友化学 | ×× | ×× |
| その他 | ×× | ×× |
| 合計 | ×× | 100 |
2021年 見込 (単位：ガロン、％)
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今後の市場動向
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こちらはサンプルです。
有料版は、フォトレジスト（ｇ線/i線）の市場動向についてのコメントを表示しています。
指標 （評価基準について）
| 指標項目 | 指標値 | 評価 |
|---|---|---|
| 市場規模 (2021年) |
××億円 | ★★★★★☆☆☆☆☆ |
| 前年比 (2021/2020年) |
105.8 ％ | ★★★★★★★☆☆☆ |
| ３年平均成長率 (2018-2021年) |
8.3 ％ | ★★★★★★★☆☆☆ |
| 長期平均成長率 (2018-2025年) |
5.5 ％ | ★★★★★★★☆☆☆ |
| 予測平均成長率 (2021-2025年) |
3.4 ％ | ★★★★★★☆☆☆☆ |
出典：富士キメラ総研「２０２２年 エレクトロニクス先端材料の現状と将来展望」2022年1月25日刊
Mpac掲載：2022/12/20
