市場規模の推移
| 年 | 販売金額 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2014年 | ×× | － |
| 2015年 | ×× | ×× |
| 2016年 | ×× | ×× |
| 2017年（見） | ×× | ×× |
| 2018年（予） | ×× | ×× |
(単位：百万円、％)
- 将来予測 ××億円（2021年）
-
フォトレジストは、半導体素子等にパターンを形成するフォトリソグラフィーに利用される感光性材料である。素材は溶剤、感光剤（光酸発生剤）、樹脂成分で構成される。
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有料版は、フォトレジスト（ｇ線/i線）の定義・市場規模についてのコメントを表示しています。
メーカーシェア
| 企業名 | ||
|---|---|---|
| 東京応化工業 | ×× | ×× |
| Dow Du Pont (米国） | ×× | ×× |
| JSR | ×× | ×× |
| 住友化学 | ×× | ×× |
| DONGJIN SEMICHEM | ×× | ×× |
| 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ | ×× | ×× |
| その他 | ×× | ×× |
| 合計 | ×× | 100 |
2017年 見込 (単位：千ガロン、％)
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今後の市場動向
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こちらはサンプルです。
有料版は、フォトレジスト（ｇ線/i線）の市場動向についてのコメントを表示しています。
指標 （評価基準について）
| 指標項目 | 指標値 | 評価 |
|---|---|---|
| 市場規模 (2017年) |
××億円 | ★★★★★☆☆☆☆☆ |
| 前年比 (2017/2016年) |
100.6 ％ | ★★★★★☆☆☆☆☆ |
| ３年平均成長率 (2014-2017年) |
-0.5 ％ | ★★★★☆☆☆☆☆☆ |
| 長期平均成長率 (2014-2021年) |
2.2 ％ | ★★★★★★☆☆☆☆ |
| 予測平均成長率 (2017-2021年) |
4.3 ％ | ★★★★★★☆☆☆☆ |
出典：富士キメラ総研「2018年 エレクトロニクス先端材料の現状と将来展望」2018年1月17日刊
Mpac掲載：2019/7/31
