市場規模の推移

| 年 | 販売金額 | 前年比 | 
|---|---|---|
| 2008年 | - | - | 
| 2009年 | ×× | - | 
| 2010年 | ×× | ×× | 
| 2011年(見) | ×× | ×× | 
| 2012年(予) | ×× | ×× | 
(単位:百万円、%)
- 将来予測 ××億円(2016年)
- 
			Low-k(低誘電率膜)材料は、半導体用の配線工程における誘電率(k値)が3.0以下の製品と定義する。従ってSiO2(k=4.0)、FSG(k=3.6)は対象外とする。 
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 有料版は、Low-k(低誘電率膜)材料の定義・市場規模についてのコメントを表示しています。
今後の市場動向
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 こちらはサンプルです。
 有料版は、Low-k(低誘電率膜)材料の市場動向についてのコメントを表示しています。
指標 (評価基準について)
| 指標項目 | 指標値 | 評価 | 
|---|---|---|
| 市場規模 (2011年) | ××億円 | ★★☆☆☆☆☆☆☆☆ | 
| 前年比 (2011/2010年) | 95.0 % | ★★★☆☆☆☆☆☆☆ | 
| 3年平均成長率 (2008-2011年) | - % | - | 
| 長期平均成長率 (2008-2016年) | - % | - | 
| 予測平均成長率 (2011-2016年) | 4.4 % | ★★★★★★☆☆☆☆ | 

				出典:富士キメラ総研「2012 有望電子部品材料調査総覧 (下巻)」2011年11月22日刊
				
				Mpac掲載:2012/9/20
			












