市場規模の推移
年 | 販売金額 | 前年比 |
---|---|---|
2008年 | - | - |
2009年 | ×× | - |
2010年 | ×× | ×× |
2011年(見) | ×× | ×× |
2012年(予) | ×× | ×× |
(単位:百万円、%)
- 将来予測 ××億円(2016年)
-
Low-k(低誘電率膜)材料は、半導体用の配線工程における誘電率(k値)が3.0以下の製品と定義する。従ってSiO2(k=4.0)、FSG(k=3.6)は対象外とする。
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有料版は、Low-k(低誘電率膜)材料の定義・市場規模についてのコメントを表示しています。
今後の市場動向
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有料版は、Low-k(低誘電率膜)材料の市場動向についてのコメントを表示しています。
指標 (評価基準について)
指標項目 | 指標値 | 評価 |
---|---|---|
市場規模 (2011年) |
××億円 | ★★☆☆☆☆☆☆☆☆ |
前年比 (2011/2010年) |
95.0 % | ★★★☆☆☆☆☆☆☆ |
3年平均成長率 (2008-2011年) |
- % | - |
長期平均成長率 (2008-2016年) |
- % | - |
予測平均成長率 (2011-2016年) |
4.4 % | ★★★★★★☆☆☆☆ |

出典:富士キメラ総研「2012 有望電子部品材料調査総覧 (下巻)」2011年11月22日刊
Mpac掲載:2012/9/20