Low-k(低誘電率膜)材料

2006年2008年│2011年

2011年 ××億円(世界市場)

市場規模の推移


販売金額前年比
2008年
2009年××
2010年××××
2011年(見)××××
2012年(予)××××

(単位:百万円、%)

将来予測 ××億円(2016年)

Low-k(低誘電率膜)材料は、半導体用の配線工程における誘電率(k値)が3.0以下の製品と定義する。従ってSiO2(k=4.0)、FSG(k=3.6)は対象外とする。



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有料版は、Low-k(低誘電率膜)材料の定義・市場規模についてのコメントを表示しています。

メーカーシェア


企業名販売高 見込シェア
Dow Corning(米国)××××
セントラル硝子××××
Air Products(米国)××××
トリケミカル研究所××××
その他××××
合計××100

2011年 見込 (単位:kg、%)

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今後の市場動向





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有料版は、Low-k(低誘電率膜)材料の市場動向についてのコメントを表示しています。

指標 評価基準について

指標項目 指標値 評価
市場規模
(2011年)
××億円 ★★☆☆☆☆☆☆☆☆
前年比
(2011/2010年)
95.0 % ★★★☆☆☆☆☆☆☆
3年平均成長率
(2008-2011年)
- %
長期平均成長率
(2008-2016年)
- %
予測平均成長率
(2011-2016年)
4.4 % ★★★★★★☆☆☆☆


出典:富士キメラ総研「2012 有望電子部品材料調査総覧 (下巻)」2011年11月22日刊

Mpac掲載:2012/9/20