市場規模の推移
| 年 | 販売金額 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2005年 | － | － |
| 2006年 | ×× | － |
| 2007年 | ×× | ×× |
| 2008年（見） | ×× | ×× |
| 2009年（予） | ×× | ×× |
(単位：百万円、％)
- 将来予測 ××億円（2013年）
-
低誘電体層間絶縁膜(Low-k)は、半導体用の配線工程に使用される製品のみに限定する。
Low-kは広義の意味ではSiO2（k値4.0）より低い製品を指す場合もあるが、本稿では、k値3.0以下の製品をLow-kとする。
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こちらはサンプルです。コメントの一部を表示しています。
有料版は、低誘電体層間絶縁膜（Low-k）の定義・市場規模についてのコメントを表示しています。
メーカーシェア
| 企業名 | ||
|---|---|---|
| Dow Corning（米国） | ×× | ×× |
| Schumacher（米国） | ×× | ×× |
| トリケミカル研究所 | ×× | ×× |
| セントラル硝子 | ×× | ×× |
| 三井化学 | ×× | ×× |
| その他 | ×× | ×× |
| 合計 | ×× | 100 |
2008年 見込 (単位：ｋｇ、％)
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今後の市場動向
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こちらはサンプルです。
有料版は、低誘電体層間絶縁膜（Low-k）の市場動向についてのコメントを表示しています。
指標 （評価基準について）
| 指標項目 | 指標値 | 評価 |
|---|---|---|
| 市場規模 (2008年) |
××億円 | ★★☆☆☆☆☆☆☆☆ |
| 前年比 (2008/2007年) |
57.0 ％ | ★☆☆☆☆☆☆☆☆☆ |
| ３年平均成長率 (2005-2008年) |
－ ％ | － |
| 長期平均成長率 (2005-2013年) |
－ ％ | － |
| 予測平均成長率 (2008-2013年) |
-9.8 ％ | ★★☆☆☆☆☆☆☆☆ |
出典：富士キメラ総研「2009 有望電子部品材料調査総覧 （下巻）」2009年1月20日刊
Mpac掲載：2010/3/15
