フォトレジスト(KrF)

2017年│2019年

2017年 ××億円(世界市場)

市場規模の推移


販売金額前年比
2014年××
2015年××××
2016年××××
2017年(見)××××
2018年(予)××××

(単位:百万円、%)

将来予測 ××億円(2021年)

フォトレジストは、半導体素子等にパターンを形成するフォトリソグラフィーに利用される感光性材料である。素材は溶剤、感光剤(光酸発生剤)、樹脂成分で構成される。



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メーカーシェア


企業名販売高 見込シェア
東京応化工業××××
信越化学工業××××
JSR××××
Dongjin Semichem(韓国)××××
Dow Du Pont (米国)××××
その他××××
合計××100

2017年 見込 (単位:千ガロン、%)

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今後の市場動向





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指標 評価基準について

指標項目 指標値 評価
市場規模
(2017年)
××億円 ★★★★★☆☆☆☆☆
前年比
(2017/2016年)
110.7 % ★★★★★★★★☆☆
3年平均成長率
(2014-2017年)
10.1 % ★★★★★★★★☆☆
長期平均成長率
(2014-2021年)
6.3 % ★★★★★★★☆☆☆
予測平均成長率
(2017-2021年)
3.5 % ★★★★★★☆☆☆☆


出典:富士キメラ総研「2018年 エレクトロニクス先端材料の現状と将来展望」2018年1月17日刊

Mpac掲載:2019/7/31