市場規模の推移
| 年 | 販売金額 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2006年 | ×× | － |
| 2007年 | ×× | ×× |
| 2008年 | ×× | ×× |
| 2009年（見） | ×× | ×× |
| 2010年（予） | ×× | ×× |
(単位：百万円、％)
- 将来予測 ××億円（2013年）
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ペリクルは、半導体や液晶パネルの露光工程で使用されるフォトマスクの透明防塵フィルムである。
フォトマスク（レチクル）の表面に貼り付けて、露光工程におけるパーティクルの付着を防止する。
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メーカーシェア
| 企業名 | ||
|---|---|---|
| MLI（米国） | ×× | ×× |
| 三井化学 | ×× | ×× |
| INKO、他 | ×× | ×× |
| 合計 | ×× | 100 |
2009年 見込 (単位：枚、％)
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今後の市場動向
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指標 （評価基準について）
| 指標項目 | 指標値 | 評価 |
|---|---|---|
| 市場規模 (2009年) |
××億円 | ★★★★☆☆☆☆☆☆ |
| 前年比 (2009/2008年) |
86.0 ％ | ★☆☆☆☆☆☆☆☆☆ |
| ３年平均成長率 (2006-2009年) |
-8.3 ％ | ★★☆☆☆☆☆☆☆☆ |
| 長期平均成長率 (2006-2013年) |
-3.9 ％ | ★★★☆☆☆☆☆☆☆ |
| 予測平均成長率 (2009-2013年) |
-0.4 ％ | ★★★★☆☆☆☆☆☆ |
出典：富士キメラ総研「2010年 先端エレクトロニクス材料・プロセッシングの将来展望」2009年12月25日刊
Mpac掲載：2011/3/15
