DUVレジスト

2004年2008年2009年2010年│2011年

2011年 ××億円(世界市場)

市場規模の推移


販売金額前年比
2008年
2009年××
2010年××××
2011年(見)××××
2012年(予)××××

(単位:百万円、%)

将来予測 ××億円(2016年)

半導体レジスト(KrF、ArF、EUVレジスト)は、半導体のフォトリソグラフィ工程における半導体レーザや電子線の露光に使用される溶解性液状材料である。
当該製品は露光の光源によって、KrF(248nm)、ArF(193nm)、EUV(13.5nm)の3つに大別される。



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メーカーシェア


企業名販売高 見込シェア
東京応化工業××××
信越化学工業××××
JSR××××
Dow Chemical(米国)××××
住友化学××××
その他××××
合計××100

2011年 見込 (単位:ガロン、%)

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今後の市場動向





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指標 評価基準について

指標項目 指標値 評価
市場規模
(2011年)
××億円 ★★★★★★☆☆☆☆
前年比
(2011/2010年)
109.9 % ★★★★★★★☆☆☆
3年平均成長率
(2008-2011年)
- %
長期平均成長率
(2008-2016年)
- %
予測平均成長率
(2011-2016年)
11.4 % ★★★★★★★★☆☆


出典:富士キメラ総研「2012 有望電子部品材料調査総覧 (下巻)」2011年11月22日刊

Mpac掲載:2012/9/20